국부증착용 마이크로 샤도우 마스크 제작

김규만; 유르겐 부르거

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자료유형: 학술저널

저자정보: 김규만 유르겐 부르거

저널정보: Korean Society for Precision Engineering Journal of the Korean Society for Precision Engineering 한국정밀공학회지 제21권 제8호

발행연도: 2004.8

수록면: 152 - 156 (5page)

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A new tool of surface patterning technique for general purpose lithography was developed based on shadow mask method. This paper describes the fabrication of a new type of miniaturized shadow mask. The shadow mask is fabricated by photolithography and etching of 100-㎜ full wafer. The fabricated shadow mask has over 388 membranes with apertures of micrometer length scale ranging from 1 ㎛ to 100s ㎛ made on each 2㎜×2㎜ large low stress silicon nitride membrane. It allows micro scale patterns to be directly deposited on substrate surface through apertures of the membrane. This shadow mask method has much wider choice of deposit materials, and can be applied to wider class of surfaces including chemical functional layer, MEMS/NEMS surfaces, and biosensors.

#Shadow mask(샤도우마스크) #Microfabrication(미세가공) #Evaporation(기회증착) #Micropatterning(마이크로 패터닝) #MEMS(멤스)

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유르겐 부르거

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