나노스크래치와 HF 식각을 병용한 보로실리케이트 요/철형 구조체 패턴 제작 기술

윤성원; 강충길

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자료유형: 학술저널

저자정보: 윤성원 강충길

저널정보: Korean Society for Precision Engineering Journal of the Korean Society for Precision Engineering 한국정밀공학회지 제21권 제4호

발행연도: 2004.4

수록면: 24 - 31 (8page)

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The objective of this work is to suggest a maskless pattern fabrication technique using the combination of machining by Nanoindenter® XP and HF wet etching. Sample line patterns were machined on a borosilicate surface by constant load scratch (CLS) of the Nanoindenter® XP with a Berkovich diamond tip, and they were etched in HF solution to investigate chemical characteristics of the machined borosilicate surface. All morphological data of scratch traces were scanned using atomic force microscope (AFM).

#Nanoscratch(나노스크래치) #Borosilicate(보로실리케이트) #Lithography(리소그래피)

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