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논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술대회자료
- 저자정보
- 발행연도
- 2004.10
- 수록면
- 19 - 22 (4page)
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Nano-scale fabrication of silicon substrate in an aqueous solution based on the use of atomic force microscopy was demonstrated. A specially designed cantil ever with diamond tip, allowing the formati on of damaged layer on silicon substrate easily by a simple scratching process (Tribo-Nanolithography, TNL), has been a pplied instead of conventional silicon cantilever for scanning. A slant nanostructure can be fabricated by a process in whic h a thin damaged layer rapidly forms in the substrate at the diamond tip -sample junction along scanning path of the tip and simultaneously the area uncovered with the damaged layer is being etched. This study demonstrates how the TNL parameters can affect the formation of damaged layer and the shape of 3-D structure, hence introducing a ne w process of proximal nanolithography in aqueous solution.
목차
ABSTRACT
1. 서론
2. 실험방법
3. 액중 TNL 가공의 메커니즘
4. TNL 가공부의 구조
5. 결론
참고문헌
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