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대한설비공학회 대한설비공학회 학술발표대회논문집 대한설비공학회 2006년도 하계학술발표대회 논문집
발행연도
2006.6
수록면
442 - 447 (6page)

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2006

반도체 클린룸용 직접분무식 에어와셔 열회수 및 가스제거 실험
여국현 ,  유경훈 ,  태경응 대한기계학회 춘추학술대회 2006.06 학술대회자료
반도체 클린룸용 직접분무식 에어와셔 시스템의 성능평가실험
여국현 ,  유경훈 ,  태경응 대한설비공학회 학술발표대회논문집 2006.06 학술대회자료
반도체 클린룸용 수증기 응축식 에어와셔 시스템의 성능평가
여국현 ,  박상태 ,  유경훈 외 1명 대한설비공학회 학술발표대회논문집 2006.06 학술대회자료

초록· 키워드

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In semiconductor manufacturing clean rooms, it becomes important to remove airborne molecular contaminants as well as particulate contaminant in outdoor air introduced into clean rooms. One suitable control technique for these chemical contaminants is air washing by water in an outdoor air handling unit. In order to enhance the removal efficiency of chemical contaminants the effect of adding a heating and humidifying process before an air washer was examined.
#Air washer(에어와셔) #Water vapor condensation(수증기 응축) #Chemical contaminants(화학오염물) #Direct contact heat exchanger(직접접촉 열교환기) #Removal efficiency(제거효율)

목차

ABSTRACT
1. 서론
2. 실험장치 및 방법
3. 실험결과 및 고찰
4. 결론
후기
참고문헌

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