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Both conventional and PI³ implanters require dense plasma sources for high productivity rate, and small sheath expansion in PI³ besides. The problem of the creation of large volume uniform plasma in PI³ facilities replaces that of beam forming in accelerators. Some aspects of ion extraction in both cases and Langmuir probe plasma diagnostics will be discussed. Plasma parameters of large volume multicusp do hot cathode and inductively coupled RF plasma sources obtained with Langmuir probe and ion mass analyzer will be presented. Design features and performances of high current Freeman and ECR ion sources will be described.

목차

Abstract
1. Introduction
2. Ion Extraction in cylindrical Geometry
3. Plasma Diagnostics by cylindrical Langmuir Probe
4. Freeman Ion Source
5. ECR Ion Source
6. Multicusp Hot Cathode and Inductively coupled Plasma Sources
7. Conclusion
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