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저널정보
한국원자력학회 Nuclear Engineering and Technology Nuclear Engineering and Technology 제41권 제5호
발행연도
2009.1
수록면
709 - 714 (6page)

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An ion implanter, which can serve as a metal-ion supply, has been constructed and performance tested. Copper ions are generated and extracted from a Bernas ion source with a heating crucible that provides feed gases to sustain the plasma. Sable arc plasmas can be sustained in the ion source for a crucible temperature in excess of 350 °C. Stable extraction of the ions is possible for arc currents less than 0.3 A. Arc currents increase with the induced power of a block cathode and the transverse field in the ion source. Cu+ ions in the extracted beam are separated using a dipole magnet. A 20 μA Cu+ ion current can be extracted with a 0.2 A arc current. The ion current can support a dose of 1016 ions/ cm² over an area of 15 cm2 within a few hours.
#Ion Source #Copper #Metal Chloride #Ion Implanter

목차

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G. De / 1996 / Annealing behavior of silver, copper, and silver-copper nanoclusters in a silica matrix synthesized by the sol-gel technique / J. Appl. Phys. 80 (12) : 6734 ~ google schola Ian G. Brown / 2004 / The physics and technology of ion source / WILEY-VCH Verlag GmbH & Co : 138 ~ google schola P.D. Townsend / 2001 / Luminescence from copper nanoparticles / Appl. Phys. B73 : 345 ~ google schola T. V. Kulevoy / 2006 / ITEP Bernas ion source with additional electron beam / Review of Scientific instruments 77 : 03C110 ~ google schola Thomas N. Horsky / 1998 / Indirectly heated cathode arc discharge source for ion implantation of semiconductors / Review of Scientific instruments 69 : 1688 ~ google schola

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