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Thin-film solar cells on the low cost substrates such as glass or metal have been considered to be the most promising candidates for low cost photovoltaics. Polycrystalline thin-film solar cells especially have many advantages in cost and efficiency over CIS(CuInSe₂) or CdTe based cells because of the advanced fabrication technology of poly-Si in the semiconductor industries and the abundance of material. The first critical requirement for the high performance cells is to deposit poly-Si film with large grain on the low cost substrates including glass at the temperature less than 600 ℃. The two major techniques for the formation of poly-Si thin-film are to recrystallize amorphous like thin silicon film deposited by chemical vapor deposition(CVD), and direct deposition method of poly-Si(or microcrystalline silicon) thin-films by modified CVDs in which other energies besides substrate heat are supplied to decompose the source gases such as SiH₄.

목차

Abstract

Ⅰ. 서론

Ⅱ. 다결정 박막실리콘 형성방법

Ⅲ. 향후전망

참고문헌

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