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PECVD로 증착된 Silicon Nitride 박막의 특성연구
한국진공학회 학술발표회초록집
1992 .07
Passivation Properties of Hydrogenated Silicon Nitrides deposited by PECVD
한국진공학회 학술발표회초록집
2016 .02
Effect of plasma properties on characteristics of silicon nitride film deposited by PECVD process at low temperature
한국진공학회 학술발표회초록집
2016 .08
Low-temperature PECVD silicon nitride film for the fabrication of capacitance type pressure sensor
한국진공학회 학술발표회초록집
2016 .08
Plasma 시스템을 이용한 MoS2 나노박막의 합성 및 식각
한국진공학회 학술발표회초록집
2015 .02
Si₃N₄ 기판 위에 PECVD법으로 형성한 tungsten nitride 박막의 특성
한국진공학회 학술발표회초록집
1998 .07
Synthesis of silicon nitride thin film for high permeation barrier performance with RF power variation on hollow cathode RF PECVD
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .02
N₂와 SiH₄ 가스를 사용하여 PECVD로 증착된 Silicon Nitride의 FT - IR spectra 분석과 전기적 특성 분석
한국진공학회 학술발표회초록집
2002 .02
Synthesis of SiNx:H films in PECVD using RF/UHF hybrid sources
한국진공학회 학술발표회초록집
2015 .08
PECVD법에 의한 다성분 Fe - O계 박막 제조
한국진공학회 학술발표회초록집
1998 .02
PECVD 공정에 의해 제작된 SION박막 특성 분석
한국진공학회 학술발표회초록집
2011 .02
자화된 유도결합 플라즈마에서의 SF₆/O₂ 특성 및 Silicon Via에 대한 식각 특성
한국진공학회 학술발표회초록집
2012 .02
PECVD 증착조건 변화에 따른 a-C:H 박막의 구조 변화
한국진공학회 학술발표회초록집
2000 .02
TiN 박막제조를 위한 PECVD 공정의 해석적 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
1992 .07
Silicon nitride deposition by VHF (162 MHz)-PECVD using a multi-tile push-pull plasma source
한국진공학회 학술발표회초록집
2016 .08
C₄F8 / O₂ / (N - based additives)를 이용한 ICP - type의 remote plasma silicon nitride PECVD chamber 세정 시 발생되는 global warming gas 저감에 관한 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2002 .02
PECVD 공정에 의해 증착된 비정질 실리콘 박막의 특성에 관한 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2013 .08
자화된 유도결합형 플라즈마를 이용한 Al - Nd 박막의 식각특성에 관한 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
1999 .07
고굴절률 PECVD SiNx 박막의 성장 및 그 표면특성 분석
한국진공학회 학술발표회초록집
2011 .02
PECVD 방법을 이용한 DLC 박막의 증착
한국진공학회 학술발표회초록집
2000 .07
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