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폴리사이드 구조에서 dual 게이트 산화막에 대한 공정특성 연구 ( A Study on the process characteristics of polycide based dual gate oxidation )
대한전자공학회 학술대회
1998 .07
폴리사이드 구조에서 dual 게이트 산화막에 대한 공정특성 연구
대한전자공학회 학술대회
1998 .06
폴리사이드 구조에서의 게이트 산화막에 대한 공정특성 개선에 관한 연구 ( A Study on the Process Characteristics Approvement of Polycide Based Gate Electrode )
대한전자공학회 학술대회
1997 .11
폴리사이드 구조에서의 게이트 산화막에 대한 공정특성 개선에 관한 연구
대한전자공학회 학술대회
1997 .11
동작속도가 빠른 Mo2N/Mo 게이트 MOS 집적회로 ( High Speed Mo2N/Mo-Gate MOS Integrated Circuit )
전자공학회지
1985 .07
텅스텐 폴리사이드 전극에 따른 게이트 산화막의 내압 특성 ( Breakdown Characteristics of Gate Oxide with Tungsten Polycide Electrode )
전자공학회논문지-A
1996 .12
니켈 폴리사이드 게이트 전극 형성에 관한 연구
한국재료학회 학술발표대회
1999 .01
PMOS에 적합한 Mo 전극의 전기적 화학적 안정성
전자공학회논문지-SD
2004 .04
코발트 폴리사이드 게이트 전극 형성
한국재료학회 학술발표대회
1997 .01
Emission Characteristics of Gated Mo-Polycide Field Emitter Arrays
대한전자공학회 학술대회
1998 .01
D MOS , V MOS tr. 등 특수구조를 갖는 MOS소자의 설계
대한전자공학회 단기강좌
1983 .01
자기 정렬된 Mo2N/Mo 게이트 MOSFET의 제조 및 특성 ( Fabrication of Self-Aligned Mo2N/Mo-Gate MOSFET and Its Characteristics )
전자공학회지
1984 .11
자기 정렬된 Mo2N / Mo 게이트 MOSFET의 제조 및 특성 ( Fabrication of Self-Aligned Mo2N / Mo-Gate MOSFET and Its Characteristics )
대한전자공학회 학술대회
1984 .01
MOS 게이트 검증을 위한 대수적 접근 방법 ( An algebraic approach for the evaluation of MOS gates )
전자공학회논문지-A
1993 .04
플라즈마 식각 공정이 N2O 산화막과 순수한 산화막을 갖는 MOS 소자 특성에 미치는 영향에 관한 연구 ( A Study on the Effect of Plasma Etching Process on the Characteristics of MOS Devices with N2O and Pure Gate Oxides )
전자공학회논문지-A
1996 .09
Ti-Ploycide 게이트에서 게이트산화막의 전연파괴특성
한국재료학회지
1993 .01
MOS 구조의 특성
대한전기학회 학술대회 논문집
1986 .07
게이트 물질을 달리한 MOS소자의 플라즈마 피해에 대한 신뢰도 특성 분석
한국정보통신학회논문지
2000 .06
Ti-polycide gate의 gate oxide 신뢰성의 limitation 연구
한국재료학회 학술발표대회
1993 .01
BF2 Dopant가 Titanium Polycide 형성에 미치는 영향
대한전자공학회 학술대회
1990 .11
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