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RP-Cvd로 제작한 도핑된 미세결정질 실리콘 박막의 특성 ( Characterization of Doped Microcrystalline Si Films Prepared by RP-CVD )
대한전자공학회 학술대회
1990 .11
RP-CVD로 제작한 도핑된 미세결정질 실리콘 박막의 특성
대한전자공학회 학술대회
1990 .11
FA-CVD에 의한 Si 박막 특성의 수소 희석 효과 ( Effect of Hydrogen Dilution on Characteristics of Thin Silicon Films Prepared by FA-CVD )
대한전자공학회 학술대회
1989 .01
새로운 CVD 방법에 의하여 제작된 실리콘 박막의 특성 연구 ( Characterization of Silicon Thin Films Prepared by New CVD Technique )
대한전자공학회 학술대회
1989 .07
RP-CVD에 의한 비정질 실리콘 박막의 특성 ( Characterization of a-Si : H films deposited by a remote plasma CVD )
대한전자공학회 학술대회
1989 .11
Remote Plasma Enhanced CVD에 의한 수소화된 비정질 실리콘 박막의 제작 및 특성 연구 ( Fabrication and Characterization of a-Si : H Films by a Remote Plasma Enhanced CVD )
대한전자공학회 학술대회
1987 .07
CVD Pt 박막의 증착과 특성 분석
한국재료학회 학술발표대회
1997 .01
FA의 새로운 展開(下)
Journal of the Korean Society for Precision Engineering
1988 .03
FA의 새로운 展開(中)
Journal of the Korean Society for Precision Engineering
1988 .01
FA의 새로운 展開(上)
Journal of the Korean Society for Precision Engineering
1987 .09
Remote Plasma Enhanced CVD에 의한 수소화된 비정질 실리콘 박막의 제작 및 특성 연구
대한전기학회 학술대회 논문집
1987 .07
Hot Wire CVD법에 의한 미세결정 실리콘 박막의 저온 증착
대한전기학회 학술대회 논문집
2000 .07
RP-CVD로 제작된 고전계 효과 이동도 비정질 실리콘 박막 트랜지스터 ( High Mobility a-Si:H Thin Film Transistor Prepared by RP-CVD )
전자공학회논문지-A
1992 .06
Laser CVD에 의한 비정질 실리콘 박막 형성
대한전자공학회 학술대회
1993 .07
RP-CVD로 제작된 실리콘 산화막의 특성 ( Characterization of SiO2 Films Deposited By RP-CVD )
대한전자공학회 학술대회
1991 .01
Laser CVD에 의한 비정질 실리콘 박막 형성에 관한 연구
대한전기학회 학술대회 논문집
1993 .07
고주파 발진기를 이용한 CVD 장치의 제작 및 평가 ( Fabrication and Evaluation of CVD System using R. F. Generator )
대한전자공학회 학술대회
1985 .01
FA와 정보시스템
전자진흥
1987 .01
CVD 기술동향
전자공학회지
2001 .08
Hot Wire CVD법에 의한 수소화된 미세결정 실리콘 ( λc-Si : H ) 박막 증착 ( The Hydrogenated Micro-crystalline Silicon ( λc-Si : H ) Films Deposited by Hot Wire CVD Method )
전자공학회논문지-SD
2000 .08
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