Si+ 이온주입된 Si 기판의 결함형성 및 회복에 관한 연구 ( Characteristics of Si + - self implant Damage and Its Annealing Behavior )

김광일 ,  이상환 ,  정욱진 외 4명

전자공학회논문지-A

1994 .08

급속 열처리시 Co/Ti/Si(100)계를 이용한 정합 Co$Si_{2}$형성기구 및 전기적 특성에 관한 연구

김기범 ,  곽준섭 ,  백홍구 외 1명

한국재료학회 학술발표대회

1997 .01

급속 열처리 장치를 이용한 실리콘 산화막의 Annealing 효과 ( Effects of Annealing on Silicon Dioxide Using Rapid Thermal Process System )

박현우 ,  장현룡 ,  황호정

대한전자공학회 학술대회

1988 .07

급속 열처리 장치를 이용한 실리콘 산화막의 Annealing 효과

박현우 ,  장현룡 ,  황호정

대한전기학회 학술대회 논문집

1988 .07

A$s^+$이온을 주입시킨 Si 표면부 미세구조와 특성

신동원 ,  최철 ,  박찬경 외 1명

한국재료학회지

1992 .01

새로운 AnneaLing 방법

홍순관 ,  박선우 ,  김철주

대한전기학회 학술대회 논문집

1988 .07

새로운 Annealing 방법 ( A New Annealing Method )

홍순관 ,  김철주 ,  박선우

대한전자공학회 학술대회

1988 .07

Rapid Thermal Annealing System의 시험 제작 ( Experimental Results of a Prototype Rapid Thermal Annealing System )

조병진 ,  김경태 ,  김충기

대한전자공학회 학술대회

1986 .01

선형열처리를 이용한 Si(100)/Si₃N₄∥Si(100)기판쌍의 직접접합

이영민 ,  송오성 ,  이상현

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2000 .11

열처리 조건에 따른 Al-Si 접촉

김태형 ,  유석빈 ,  김창일 외 1명

대한전기학회 학술대회 논문집

1990 .07

급속 열처리공정 ( RTA ) 에 의한 a-Si / Ti / a-Si 다층구조의 TiSi2 형성에 관한 연구 ( Titanium Silicide Formation of the a-Si / Ti / a-Si Multilayer by Rapid Thermal Annealing )

윤형섭 ,  진영모 ,  강원구 외 1명

대한전자공학회 학술대회

1987 .11

Application of Modified Rapid Thermal Annealing to Doped Polycrystalline Si Thin Films Towards Low Temperature Si Transistors

So ,  Byung-Soo ,  Kim 외 5명

한국재료학회지

2008 .01

Si 이온주입결함이 B 의 channeling 및 확산에 미치는 영향 ( Effects of Si Ion Induced Defects on Channeling and Diffusion on B )

김광일 ,  정욱진 ,  배영호 외 3명

대한전자공학회 학술대회

1993 .11

Si 이온주입결함이 B의 channeling 및 확산에 미치는 영향

김광일 ,  정욱진 ,  배영호 외 3명

대한전자공학회 학술대회

1993 .11

선형열처리를 이용한 Si(100)/Si$_3$N$_4$∥Si (100) 기판쌍의 직접접합

이영민 ,  송오성 ,  이상연

한국재료학회지

2001 .01

급속 열처리에 의한 a-Si 결정화시 잠열의 영향에 대한 연구

박혜향 ,  윤여건 ,  김기범 외 1명

한국재료학회 학술발표대회

2000 .01

슬립현상을 최소화하기 위한 급속 열처리 ( Rapid Thermal Annealing to Minimize Slip )

권경섭 ,  이범학 ,  황호정

대한전자공학회 학술대회

1988 .07

슬립현상을 최소화 하기위한 급속열처리

권경섭 ,  이범학 ,  황호정

대한전기학회 학술대회 논문집

1988 .07