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1GDRAM용 BaxSr1-xTiO3 고유전 커패시터의 전기적 특성 평가 및 신뢰도 분석 ( Electrical Characterization and Reliability Test of BaxSr1I-x TiO3 High Dielectric Thin film Capacitor for 1GDRAM )
대한전자공학회 학술대회
1995 .11
Novel Robust Structure and High k Dielectric Material for 90 ㎚ DRAM Capacitor
JOURNAL OF SEMICONDUCTOR TECHNOLOGY AND SCIENCE
2003 .06
THE EFFECTS OF PRE-TREATMENT ON $Ta_2O_5$ DIELECTRICS FOR A DRAM CAPACITOR
한국재료학회 학술발표대회
1998 .01
DRAM용 (Ba0.7Sr0.3)TiO₃ 박막의 전기적 특성
전기학회논문지
1998 .10
MOCVD 법에 의한 BaxSr1-xTiO3 박막의 물리적 , 전기적 특성에 관한 연구 ( Physical and Electrical Properties of BaxSr1-xTiO3 Thin Films Prepared by Metalorganic Chemical Vapor Deposition )
대한전자공학회 워크샵
1996 .01
Giga-Bit급 DRAM을 위한 고유전 ( Ba , Sr ) TiO3 박막 커패시티의 유전완화 특성에 대한 회로 모델 ( A Circuit Model of the Dielectric Relaxation of the High Dielectric ( Ba , Sr ) TiO3 Thin Film Capacitor for Giga-Bit Scale DRAMs )
전자공학회논문지-SD
2000 .04
캐패시터용 (Ba1-xSrx)TiO₃ 박막의 제조 및 특성
전기학회논문지 P
2000 .04
DRAM 특집을 내면서
전기의세계
1989 .04
THE EFFECT OF DIELECTRIC RELAXATION ON DRAM OPERATION
한국재료학회 학술발표대회
1998 .01
256Mbit 및 그 이후 세대 DRAM을 위한 소자분리 및 Capacitor 기술 ( Isolation and Capacitor Technologies for 256M Bit DRAMs and Beyond )
대한전자공학회 학술대회
1995 .01
고집적 DRAM Cell 에 대한 연구 ( The Study of High Density DRAM Cell Structure )
대한전자공학회 학술대회
1989 .01
고밀도 DRAM Cell의 새로운 구조에 관한 연구 ( A Study on New High Density DRAM Cell )
전자공학회논문지
1989 .06
Ir Thin Film as a Bottom Electrode for High Dielectric ( Ba , Sr ) TiO3 Capacitor
대한전자공학회 학술대회
1997 .01
256M DRAM 급 이상의 Capacitor 유전체용 PLT 박막의 제조 및 특성평가
한국재료학회 학술발표대회
1994 .01
Technology Trend in DRAM Cells
ICVC : International Conference on VLSI and CAD
1991 .01
256Mbit DRAM용 Capacitor Technology
대한전자공학회 학술대회
1994 .01
ロジックとの混載に適した反轉スタックキャパシタ ( RSTC ) DRAMセル構造の提案 ( A Reserved-Stacked-Capacitor ( RSTC ) DRAM Cell Suitable for Embedded DRAM`s )
대한전자공학회 워크샵
1996 .01
256K DRAM의 신뢰성
전자진흥
1985 .01
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