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논문 기본 정보
- 자료유형
- 학위논문
- 저자정보
- 지도교수
- 박우성
- 발행연도
- 2021
- 저작권
- 숙명여자대학교 논문은 저작권에 의해 보호받습니다.
이용수9
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나노 디바이스의 특성 길이가 짧아짐에 따라 박막의 두께와 물질 특성을 조절하는 것이 중요해지고 있으며, 이에 따라 원자 단위로 박막 증착을 제어할 수 있는 유일한 방법인 원자층 증착 방법(Atomic layer deposition, ALD)이 주목받고 있다. 본 연구에서는 플라즈마 강화 원자층 증착 방법에서 기판 근처의 플라즈마 에너지를 체계적으로 조절함으로써, 비정질 Al2O3 박막의 밀도를 변화시켰으며, 이 때 유전, 열적 특정에 끼치는 영향을 확인하였다. 기판 근처의 플라즈마 에너지는 기판 바이어싱 전압을 0 V에서 ~117 V까지 가하는 방법으로 조절하였으며, 밀도와 유전 상수, 열전도도는 비례하게 증가하지 않으며, 유전상수와 열전도도의 최댓값이 서로 다른 바이어싱 전압에서 관찰되는 것을 확인할 수 있었다. 밀도에 따른 유전 상수와 열전도도의 영향은 Clausius-Mossitti 모델과 minimum thermal conductivity model, effective medium theory로 분석하였으며, 유전 상수의 최댓값이 알루미늄 박막에서의 산소 분율에 영향을 받았음을 예측할 수 있었다. 본 연구는 유전 박막의 밀도와 구조 형성을 섬세하게 조절할 수 있는 방법을 제시한 것에 의의가 있으며, 다른 산화물 박막의 플라즈마 원자층 증착 방법에서도 일반적으로 적용될 수 있을 것이다.
목차
Ⅰ. INTRODUCTION = 1Ⅱ. FABRICATION AND CHARACTERIZATION = 42.1 Sample preparation = 42.2 Characterization = 62.2.1 Growth characteristics = 62.2.2 Electrical properties = 82.2.3 Thermal properties = 92.2.4 Microstructural characteristics = 11Ⅲ. RESULTS AND DISCUSSION = 143.1 Experimental results = 143.2 Microscopic model = 173.2.1 Minimum thermal conductivity = 173.2.2 Differential effective medium theory = 173.3 The dependence of intrinsic thermal conductivity on mass density = 183.4 The dependence of dielectric constant on mass density = 223.5 Correlation between intrinsic dielectric and thermal properties = 24Ⅳ. CONCLUDING REMARKS = 26Ⅴ. REFERENCES = 27ABSTRACT IN KOREAN = 33APPENDIX (COPYRIGHT) = 34
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