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논문 기본 정보
- 자료유형
- 학위논문
- 저자정보
- 지도교수
- 朱廷焄, 崔鎔燮
- 발행연도
- 2018
- 저작권
- 군산대학교 논문은 저작권에 의해 보호받습니다.
이용수3
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대부분의 고진공을 요구하는 공정에는 TMP가 사용되며 챔버내의 잔류기체 분석을 위하여 RGA를 사용하게 된다. 본 논문에서는 대표적인 TMP fail의 종류인 대량누설에 따른 TMP fail과 잘못된 venting valve 사용에 따른 TMP fail에 대하여 원인분석을 실시하였으며, 오염된 filament 및 ion source 상태에 따른 ion current 변화 및 사중극자 fail에 따른 ion current 변화를 통하여 QMS fail의 원인을 분석하였다. TMP fail의 원인 분석을 통하여 TMP controller의 logic을 개선해야하며 TMP housing의 venting hole의 구조 변화의 필요성을 제시하였고 QMS fail 원인 분석을 통하여 ion source의 오염 및 식각에 의하여 정상적인 ion source의 ion current보다 같은 환경에서 ion current가 낮게 측정되므로 주기적인 ion source의 교체의 필요성을 제시하였으며 quadrupole의 사이 거리에 변화가 있을시 측정되는 ion current data를 이용하여 quadrupole 사이 거리를 추정할 수 있는 방법을 제시하였다.
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