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논문 기본 정보
- 자료유형
- 학위논문
- 저자정보
- 지도교수
- 정양수
- 발행연도
- 2016
- 저작권
- 충남대학교 논문은 저작권에 의해 보호받습니다.
이용수53
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다양한 용도로 사용되는 웨이퍼는 표면 구조 특성이 소자의 특성 및 수율에 영향을 준다. 예를 들면 기판으로 사용되는 웨이퍼의 경우에 표면 손상이 에피층에 영향을 주어 성장이 제대로 이루어지지 않거나, 에너지 소자의 경우 표면 손상으로 인해 에너지 변환효율이 줄어들게 된다. 그래서 웨이퍼의 표면 특성을 파악하는 것은 매우 중요하다.
본 연구에서는 웨이퍼의 구조특성에 대해 정밀 측정이 가능한 고분해능 XRD를 이용하여 표면 손상에 의한 구조 특성 평가를 시행하였다.
결과적으로 가공에 의한 표면의 손상에 의해 압축잔류응력이 있음을 확인하였으며, 보우에 주된 요인이 아닌 것을 알 수 있다.
본 연구에서는 웨이퍼의 구조특성에 대해 정밀 측정이 가능한 고분해능 XRD를 이용하여 표면 손상에 의한 구조 특성 평가를 시행하였다.
결과적으로 가공에 의한 표면의 손상에 의해 압축잔류응력이 있음을 확인하였으며, 보우에 주된 요인이 아닌 것을 알 수 있다.
목차
1. 서론 12. 배경 32.1. 브래그 법칙과 격자 구조 32.2. 고분해능 XRD 93. 실험 및 재료 183.1. 실험장치 183.2. 실험방법 193.3. 재료 224. 결과 254.1. 태양 전지용 단결정 실리콘 웨이퍼 측정 결과 254.1.1. 웨이퍼 위치별 측정 결과 264.1.2. 열처리 전·후 측정 결과 274.1.3. 에칭 전·후 측정 결과 294.2. 단결정 사파이어 웨이퍼 측정 결과 335. 결론 40참고문헌 41초록 42
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