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논문 기본 정보
- 자료유형
- 학위논문
- 저자정보
- 지도교수
- 김국원
- 발행연도
- 2015
- 저작권
- 순천향대학교 논문은 저작권에 의해 보호받습니다.
이용수1
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Nanoimprint Lithography(NIL)공정은 고속화 및 대면적화를 통한 대량생산 기술로의 전환을 목표로 하고 있다. UV NIL의 경우 비 진공환경(Non-vacuum environment)에서 공정이 가능하다면 설비비용을 낮추고 공정시간을 단축하는데 큰 기여를 할 수 있다. 그러나 이 경우 시급한 문제는 기포(Bubble)결함을 해결하는 것이다. 즉 비 진공환경에서는 공정 중 공기의 유입에 의해 패턴에 기포 결함이 발생하게 되는데, 기포를 완전히 제거 혹은 억제하는 연구가 시급한 실정이다.
본 논문에서는 UV NIL 공정에서의 기포 결함에 대한 해석적 연구를 수행하였다. 유동해석 전문 프로그램인 ANSYS Fluent와 유체체적분율 방법인 VOF(Volume of Fluid)를 이용하였고, 몰드 입구 속도와 초기 코팅두께 변화, 접촉각에 따른 기포형성 변화를 분석하였다.
본 논문에서는 UV NIL 공정에서의 기포 결함에 대한 해석적 연구를 수행하였다. 유동해석 전문 프로그램인 ANSYS Fluent와 유체체적분율 방법인 VOF(Volume of Fluid)를 이용하였고, 몰드 입구 속도와 초기 코팅두께 변화, 접촉각에 따른 기포형성 변화를 분석하였다.
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