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논문 기본 정보
- 자료유형
- 학위논문
- 저자정보
- 지도교수
- 이호준
- 발행연도
- 2014
- 저작권
- 부산대학교 논문은 저작권에 의해 보호받습니다.
이용수3
이 논문의 연구 히스토리 (8)
2016
2014
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A linear microwave plasma source is fabricated for the application of
low temperature large area PECVD(Plasma Enhanced Chemical Vapor
Deposition). High density plasma is generated from 0.5 to 1x1018/m3
.
Electron density and temperature are measured using Langmuir probe diagnostics. Also, characterization of linear microwave plasma and
plasma power loss are investigated through the fluid simulation.
Electron density and temperature distribution are shown similar
tendencies with experimental results. Characterization of surface plasma
is measured by simulation results at high density condition. It means
that power loss problem of surface have to solve for effective plasma
source.
low temperature large area PECVD(Plasma Enhanced Chemical Vapor
Deposition). High density plasma is generated from 0.5 to 1x1018/m3
.
Electron density and temperature are measured using Langmuir probe diagnostics. Also, characterization of linear microwave plasma and
plasma power loss are investigated through the fluid simulation.
Electron density and temperature distribution are shown similar
tendencies with experimental results. Characterization of surface plasma
is measured by simulation results at high density condition. It means
that power loss problem of surface have to solve for effective plasma
source.
목차
Ⅰ. 서론 2Ⅱ. 이론적 배경2.1 플라즈마의 정의 52.2 정전 탐침(Langmuir probe)법 112.3 마이크로웨이브 플라즈마 16Ⅲ. 시뮬레이션 및 실험 방법3.1 선형 마이크로웨이브 플라즈마 장치 233.2 유체 시뮬레이션(Fluid simulation) 27Ⅳ. 시뮬레이션 및 실험 결과4.1 유체 시뮬레이션 결과 294.2 정전 탐침(Langmuir probe) 측정 결과 53Ⅴ. 결론 60Ⅵ. 참고 문헌 62
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