Influence on Post-treatment Process on Optical and Electrical Properties of IZO Thin Films

Jinsu Jung; 이두원; 채명수; Hee-Dong Kim

doi:10.1007/s42341-024-00517-4

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자료유형: 학술저널

저자정보: Jinsu Jung (Sejong University) 이두원 (세종대학교) 채명수 (세종대학교) Hee-Dong Kim (Sejong University)

저널정보: 한국전기전자재료학회 Transactions on Electrical and Electronic Materials Transactions on Electrical and Electronic Materials Vol.25 No.3

발행연도: 2024.6

수록면: 347 - 355 (9page)

DOI: 10.1007/s42341-024-00517-4

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In this paper, we studied the post-treatment eff ect in order to optimize the optical and electrical properties of the IZO transparent conductive oxide (TCO). We used the rapid thermal annealing (RTA) process, which provides direct thermal energy, and the micro-wave treatment (MWT) process, which provides vibrational energy of particles among the various methods. The sheet resistance and transparency were investigated in order to comparatively evaluate their electrical and optical characteristics. First, the RTA process shows a sharp increase in sheet resistance, which is due to thermal damage, as a result of sheet resistance, whereas the MWT process shows a stable change in sheet resistance with low resistance values, which are in a range of 17.73–33.95 Ω/ᦕ. The sheet resistance of the IZO fi lm after MWT was improved by approximately 47% compared to the IZO fi lm after RTA. The transmittance after both the RTA and the MWT was then similarly observed to be 70% over in the visible light region of 400–700. This result therefore indicates that the MWT process does not cause thermal damage to the IZO fi lms, and it provides excellent electrical and optical characteristics.

#IZO #MWT #TCO

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