메뉴 건너뛰기
.. 내서재 .. 알림
소속 기관/학교 인증
인증하면 논문, 학술자료 등을  무료로 열람할 수 있어요.
한국대학교, 누리자동차, 시립도서관 등 나의 기관을 확인해보세요
(국내 대학 90% 이상 구독 중)
로그인 회원가입 고객센터 ENG
주제분류
인문학
인문학 일반 역사학 철학 종교학 어문학 기타 인문학
사회과학
사회과학 일반 경영학 관광학 교육학 군사학 문헌정보학 법학 사회학 신문방송학 심리과학 정치외교학 지리학 행정학 경제학 무역학 인류학 기타 사회과학
자연과학
자연과학 일반 물리학 생물학 생활과학 수학·통계학 천문학 지구과학 화학 기타 자연과학
공학
공학 일반 건축공학 기계공학 산업공학 재료·에너지공학 전기전자공학 조선해양공학 화학공학 컴퓨터학 기타공학
의약학
의학 일반 간호학 수의학 약학 한의학 기초의학 임상의학 기타 의약학
농수해양학
농수해양학 일반 농학 수산학 식품과학 임학 축산학 해상운송학 기타 농수해양학
예술체육학
예술 일반 디자인 미술 미용 사진 음악학 의상 체육 공연매체예술 기타 예술체육학
복합학
학제간연구 과학기술학 뇌인지과학 기술정책 기타 복합학

ENG

추천
검색

논문 기본 정보

자료유형
학술저널
저자정보
홍경림 (한국기술교육대학교 에너지신소재화학공학부) 이규만 (한국기술교육대학교 에너지신소재화학공학부)
저널정보
한국반도체디스플레이기술학회 반도체디스플레이기술학회지 반도체디스플레이기술학회지 제18권 제3호
발행연도
2019.1
수록면
7 - 11 (5page)

이용수

표지
📌
연구주제
📖
연구배경
🔬
연구방법
🏆
연구결과
AI에게 요청하기
추천
검색

초록· 키워드

오류제보하기
We have investigated the effect of the hydrogen flow rate on the characteristics of IZO thin films for the TCO (transparent conducting oxide). For this purpose, IZO thin films are deposited by RF magnetron sputtering at $300^{\circ}C$ with various $H_2$ flow rate. To investigate the influences of the ambient gases, the flow rate of hydrogen in argon was varied from 0.1 sccm to 1 sccm. The IZO thin films deposited at $300^{\circ}C$ show crystalline structure having an (222) preferential orientation. The electrical resistivity of the crystalline-IZO films deposited at $300^{\circ}C$ and hydrogen gas of 0.8sccm was $3.192{\times}10^{-4}{\Omega}cm$, the lowest value. As the hydrogen gas flow rate increased, the resistivity tended to decrease. The XPS profiles showed that the number of oxygen vacancy decreased as the hydrogen flow rate increased. The transmittance of the IZO films deposited at $300^{\circ}C$ were showed more than 80%.
#IZO Thin Film #RF-Magnetron Sputtering #Hydrogen Flow Rate

목차

등록된 정보가 없습니다.

참고문헌 (14)

참고문헌 신청
K. Ishibashi / 1992 / Mass spectrometric ion analysis in the sputtering of oxide targets / Journal of Vacuum Science & Technology A. 10:1718~1722 google schola K. Tominaga / 1996 / ITO films prepared by facing target sputtering system / Thin Solid Films 281-282:194 google schola Y. Hoshi / 2003 / Structure and electrical properties of ITO thin films deposited at high rate by facing target sputtering / Thin Solid Films 445:245~250 google schola 허주희 / 2008 / 분위기 가스에 따른 ITO 박막의 전기적 및 구조적 특성 / 반도체디스플레이기술학회지 7(4):7~11 dbpia 허주희 / 2009 / Reactive sputtering 법으로 증착된 AZO 박막의 전기적 및 구조적 특성 / 반도체디스플레이기술학회지 8(1):33~38 dbpia

함께 읽어보면 좋을 논문

논문 유사도에 따라 DBpia 가 추천하는 논문입니다. 함께 보면 좋을 연관 논문을 확인해보세요!

이 논문의 저자 정보

최근 본 자료

전체보기

댓글(0)

0