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논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술대회자료
- 저자정보
- 발행연도
- 2023.5
- 수록면
- 1,255 - 1,262 (8page)
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This paper introduces auto bias electrical variable capacitor(EVC) with reduced active components and voltage, current stress that mitigated switch noise for 13.56MHz RF plasma process. The proposed circuit have a small volume and low cost of EVC by using a small number of active components for the variable operation of the electrical variable capacitor, and enables more effective use in high-power systems through low switch voltage and current stress. In addition, the RF component flowing through the switch is effectively blocked to increase the operational reliability of the switch. The proposed circuit can be effectively replaced in the impedance matching network of RF plasma systems that require high power and high reliability.
목차
Abstract
I. INTRODUCTION
II. IMPEDANCE MATCHING NETWORK FOR RF PLASMA SYSTEM INCLUDING CONVENTIONAL EVC
III. PROPOSED RESONANCE TYPE AUTO BIAS EVC CIRCUIT WITH IMPROVED SWITCH RELIABILITY
IV. SIMULATION & EXPERIMENT VERIFICATION
V. CONCLUSION
REFERENCES
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