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논문 기본 정보

자료유형
학술저널
저자정보
민주화 (전북대) 채범석 (전북대) 김현배 (삼성전자) 서용석 (전북대)
저널정보
전력전자학회 전력전자학회논문지 전력전자학회 논문지 제24권 제3호
발행연도
2019.6
수록면
161 - 168 (8page)

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이 논문의 연구 히스토리 (5)

2022

RF 플라즈마 공정의 빠른 임피던스 정합기를 위한 전력변환기 기반 가변 커패시터 시스템
민주화 전기공학(전기공학) 2022.01 학위논문

2020

RF 임피던스 정합기의 커패시턴스 가변 시간이 개선된 하이브리드 가변 커패시터 방식
민주화 ,  서용석 전력전자학회 학술대회 논문집 2020.08 학술대회자료

2019

대칭적인 스위치 구조 기반 RF 플라즈마 시스템 적용 전기적 가변 커패시터
민주화 ,  채범석 ,  김현배 외 1명 전력전자학회논문지 2019.06 학술저널
RF 플라즈마 시스템에서 전기적 가변 커패시터의 대칭적인 스위치 구조를 활용한 전압 스트레스 저감 방법
민주화 2019.01 학위논문

2018

양방향 스위치 기반 RF플라즈마 시스템 적용 전기적 가변 커패시터
민주화 ,  채범석 ,  서용석 외 2명 전력전자학회 학술대회 논문집 2018.07 학술대회자료

초록· 키워드

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This study introduces a new topology to decrease the voltage stress experienced by a 13.56 MHz electrical variable capacitor (EVC) circuit with an asymmetrical switch structure applied to the impedance matching circuit of a radio frequency (RF) plasma system. The method adopts a symmetrical switch structure instead of an asymmetrical one in each of the capacitor’s leg in the EVC circuit. The proposed topology successfully reduces voltage stress in the EVC circuit due to the symmetrical charging and discharging mode. This topology can also be applied to the impedance matching circuit of a high-power and high-frequency RF etching system. The target features of the proposed circuit topology are investigated via simulation and experiment. Voltage stress on the switch of the EVC circuit is successfully reduced by more than 40%.
#EVC(Electrical Variable Capacitor) #RF plasma system #Voltage stress

목차

Abstract
1. 서론
2. 플라즈마 시스템과 가변 커패시터
3. 두 가지 방식의 전기적 가변 커패시터 회로의 회로해석
4. 시뮬레이션 검증
5. 실험 검증
6. 결론
References

참고문헌 (12)

참고문헌 신청
W. E. McKinzie / 2018 / Method and apparatus for adaptive impedance matching / U.S. Patent 10 050 598 google schola W. Glazek / 2018 / Plasma impedance matching for supplying RF power to a plasma load / U.S. Patent 0 053 633 google schola G. C. Martins / 2016 / Multistage complex- impedance matching network analysis and optimization / IEEE Transactions on circuits and system 63(9) google schola C. Jiang / 2018 / Analysis and experimental study of impedance matching characteristic of RF ion source on neutral beam injector / IEEE Transactions on Plasma Science 46(7) google schola I. A. Bhutta / 2015 / RF impedance matching network / U.S. Patent 9 196 459 google schola

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