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논문 기본 정보

자료유형
학술저널
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저널정보
대한화학회 대한화학회지 대한화학회지 제59권 제2호
발행연도
2015.4
수록면
125 - 131 (7page)

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공기를 제거한 상태에서 0.5M HCl과 0.5M 용액에서 일어나는 니켈의 부식에 대하여 히스티딘 과 메티오닌의 부식억제 효과를 연구하였다. 각 경우에 니켈의 부식은 산화반응 속도가 감소되어 억제되었다. HCl 용액에서 니켈 표면에 일어나는 아미노산의 흡착은 수정된 Langmuir 흡착 등온식을 따르지만, 용액에서는 흡착된 분자들 간의 상호 작용에 영향을 받아 Temkin의 대수함수 등온식이 잘 적용되었다. HCl 용액에서 흡착되는 히스티딘의 경우만 히스티딘의 {}, {}와 니켈 표면의 {}사이의 정전기적 인력에 의해 물리흡착으로, 다른 경우는 Ni의 빈 d-orbital과 히스티딘 또는 메티오닌에 존재하는 비결합 전자쌍 사이에 화학흡착으로 설명할 수 있었다.
#니켈 #메티오닌 #부식억제 #히스티딘 #Corrosion inhibition #Histidine #Langmuir #Methionine #Nickel #Temkin

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