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논문 기본 정보

자료유형
학술저널
저자정보
전환진 (한국공학대학교)
저널정보
한국진공학회 진공이야기 진공이야기 제10권 제2호
발행연도
2023.6
수록면
6 - 11 (6page)

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Among lithography process technologies that can be used on a laboratory scale with low equipment and process cost, Capillary Force Lithography(CFL) is attracting attention because it can produce ultrafine patterns using basic equipment and general polymer behavior. In addition, the recently developed Secondary Sputtering Lithography(SSL) is expected to grow into a next-generation lithography technology in the future as it can effectively produce 10 nm nanopatterns by applying a plasma process to the existing lithography process.

목차

서론
모세관힘 리소그래피(Capillary Force Lithography)
Secondary Sputtering Lithography: 10nm대의 초고분해능 패턴을 제작할 수 있는 Top-down 패터닝 기술
맺음말
References

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