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논문 기본 정보

자료유형
학술저널
저자정보
김대훈 (금오공과대학교) 송광섭
저널정보
대한전자공학회 전자공학회논문지 전자공학회논문지 제60권 제5호(통권 제546호)
발행연도
2023.5
수록면
81 - 86 (6page)
DOI
10.5573/ieie.2023.60.5.81

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본 연구는 이온 감응 전계효과 트랜지스터(ISFET) 방식의 pH 센서 신뢰성을 높이기 위해 불소 표면 개질 방법을 이용하였다. 인듐 주석 산화물(ITO) 박막을 RF 스퍼터링 방법으로 증착하였으며 포토리소그래피 공정을 통해 채널 길이 80 ㎛, 폭 2000 ㎛의 ITO-ISFET를 제작하였다. ITO-ISFET의 pH 센서 감도는 60.2 ㎷/pH 이었으며 드리프트 특성은 4.1 ㎷/h, 히스테리시스 특성은 21.1 ㎷ 이었다. ITO-ISFET의 드리프트 및 히스테리시스 특성을 개선하기 위하여 게이트 채널 표면을 기능화 처리하였다. 기능화는 C₃F₈ 가스 분위기에서 고주파 플라즈마 처리 방법을 이용하였으며 불소 처리된 ITO 박막은 X-선 광전자 분광법(XPS)을 이용하여 평가하였다. 불소 원자는 플라즈마 처리에 의해 ITO 전극의 주석 또는 인듐 원자와 안정적인 이온 결합을 하였다. 플라즈마 처리에 의해 부분적으로 불소 개질된 ITO-ISFET의 pH 감도는 58.7 ㎷/pH이었다. 드리프트 특성은 2.6 ㎷/h, 히스테리시스 특성은 4.0 ㎷로 각각 감소되어 플라즈마 처리 전과 비교하여 ITO-ISFET의 신뢰성이 개선되었다.

목차

요약
Abstract
Ⅰ. 서론
Ⅱ. 실험
Ⅲ. 결과 및 토의
Ⅳ. 결론
REFERENCES

참고문헌 (13)

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