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저자정보
신석윤 (한양대학교) 박주현 (한양대학교) 이주현 (한양대학교) 최형수 (한양대학교) 박현우 (한양대학교) 방민욱 (한양대학교) 임경필 (한양대학교) 김현준 (한양대학교) 전형탁 (한양대학교)
저널정보
한양대학교 세라믹공정연구센터 Journal of Ceramic Processing Research Journal of Ceramic Processing Research 제19권 제5호
발행연도
2018.10
수록면
401 - 406 (6page)
DOI
10.36410/jcpr.2018.19.5.401

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We investigated the effect of ZnO seed layer thickness on the density of ZnO nanorod arrays. ZnO has been deposited usingtwo distinct processes consisting of the seed layer deposition using ALD and subsequent hydrothermal ZnO growth. Due tothe coexistence of the growth and dissociation during ZnO hydrothermal growth process on the seed layer, the thickness ofseed layer plays a critical role in determining the nanorod growth and morphology. The optimized thickness resulted in theregular ZnO nanorod growth. Moreover, the introduction of ALD to form the seed layer facilitates the growth of the nanorodson ultrathin seed layer and enables the densification of nanorods with a narrow change in the seed layer thickness. This studydemonstrates that ALD technique can produce densely packed, virtually defect-free, and highly uniform seed layers and twodistinctive processes may form ZnO as the final product via the initial nucleation step consisting of the reaction between Zn2+ions from respective zinc precursors and OH? ions from H2O.
#ZnO #Nanorod #Seed layer #Atomic layer deposition #Hydrothermal growth

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Z. R. Dai / 2003 / Adv. Funct. Mater 13(1):9~24 google schola L. Vayssieres / 2004 / Angew. Chem. Int. Edit 43(28):3666~3670 google schola J. -S. Na / 2009 / Acs Nano 3(10):3191~3199 google schola N. Golego / 2000 / J. Electrochem. Soc 147(4):1592~1594 google schola M. -C. Jeong / 2007 / Small 3(4):568~572 google schola

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