Electrocaloric properties of K(Ta0.6Nb0.4)O3/SrTiO3 double layer thin films using metal alkoxides

권민수; 이성갑; 김경민

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자료유형: 학술저널

저자정보: 권민수 (경상대학교) 이성갑 (경상대학교) 김경민 (경상대학교)

저널정보: 한양대학교 세라믹공정연구센터 Journal of Ceramic Processing Research Journal of Ceramic Processing Research 제19권 제4호

발행연도: 2018.8

수록면: 316 - 320 (5page)

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In this study, KTN/STO thin films were fabricated on Pt/Ti/SiO2/Si substrate, as a buffer layer, and their structural andelectrical properties were measured according to the number of STO coatings and investigated its applicability to electrocaloricmaterials. KTN/STO thin films showed a polycrystalline KTN XRD peaks with a pyrochlore phase. However, dependence onthe number of STO coatings and pyrochlore phase was not observed. The average grain size was about 80~90 nm, the averagethickness of 6-coated KTN thin film was about 320 nm, and the average thickness of the STO thin film coated once was about50-55 nm. Saturation polarization of K(Ta0.6Nb0.4)O3/SrTiO3 thin films was 24.5 μC/cm2. Electrocaloric temperature change ΔTof K(Ta0.6Nb0.4)O3 thin film showed the maximum value of 3.14 oC at around 76 oC under a high electric field of 332.9 kV/cm.

#Electrocaloric effect #KTN #Seeding layer #Hysteresis loop #Sol-gel method

참고문헌 (18)

참고문헌 신청

V.K. Pecharsky / 1997 / Phys. Rev. Lett. 78:4494

J.H. Qiu / 2008 / J. Appl. Phys. 103:084105

S. Lu / 2012 / J. Adv. Dielectrics 2:1230011

A. Nazeri / 1992 / J. Am. Ceram. Soc. 75:2125~2133

R. Pattnaik / 1997 / Phys. Rev. Lett. 79:4677

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