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논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술저널
- 저자정보
- 발행연도
- 2021.3
- 수록면
- 927 - 931 (5page)
- DOI
- https://doi.org/10.1016/j.net.2020.08.004
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In this work, an attempt is made to improve the electrochemical corrosion resistance of Zircaloy-4 byhelium ions implantation. For this purpose, the Zircaloy-4 was implanted with 300 keV helium ions offluences 1 1013, 1 1015, and 1 1016 ions-cm2 by using Pelletron Accelerator. Electrochemical testsof pristine and ion-implanted samples were performed in NaCl solution and their potentiodynamicpolarization curves were obtained. The results showed enhancement of the corrosion resistance ofZircaloy-4 after helium ions implantation. The corrosion rate and current density of the material weresignificantly reduced by the helium implantation. The decrease in corrosion parameters was attributed tohelium ions diffusion inside Zircaloy-4 that reduced the electrons flow from the samples.
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