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Seungwan Ryu (Samsung Electronics) Sungsoon Yim (Samsung Electronics) Seokmin Wi (Samsung Electronics) Seungyun Jung (Samsung Electronics) Sanghoon Kim (Samsung Electronics) Byeonghee Kim (Samsung Electronics)
저널정보
제어로봇시스템학회 제어로봇시스템학회 국제학술대회 논문집 ICCAS 2022
발행연도
2022.11
수록면
484 - 487 (4page)

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Among numerous process conditions, e.g. pressure, temperature, and RF, the pressure is one of the essential control parameters to influence on semiconductor manufacturing because its change affects the etch rate, selectivity, aspect ratio, and so on. Therefore, it is important to delicately and consistently control several reference pressures in process recipe. In this paper, we model a system of a process chamber as a transfer function using a time-domain system identification method. After then, a scheduled proportional-integral-differential (PID) controller is designed to regulate a series of reference pressure. To this end, we employ gain sets optimized by Genetic Algorithm (GA) considering control performance indices, i.e. overshoot, rise time, and settling time. Through our experimental results, we confirm that our control scheme shows appreciable improvement compared with a current pressure controller applied in mass production line.

목차

Abstract
1. INTRODUCTION
2. ETCHER
3. SYSTEM IDENTIFICATION
4. CONTROL DESIGN
5. EXPERIMENTAL RESULT
6. CONCLUSION
REFERENCES

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