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논문 기본 정보

자료유형
학술저널
저자정보
정필훈 (숭실사이버대학교)
저널정보
한국산학기술학회 한국산학기술학회 논문지 한국산학기술학회논문지 제23권 제11호
발행연도
2022.11
수록면
625 - 630 (6page)
DOI
10.5762/KAIS.2022.23.11.625

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OLED 및 반도체 제조 공정에서 정전기 장해로 불량이 증가하여 제조 수율이 낮아지고 있다. 이러한 정전기 문제를 해결하기 위해 도입된 정전기 제거장치는 전압인가방식과 방사선조사방식의 정전기 제거장치가 사용된다. 전압인가방식 정전기 제거장치는 오염물질 발생, 스패터링 현상, 이온 불균형, 정전유도작용 등의 문제점이 있어 주기적인 관리가 필요하다. 방사선조사방식의 정전기 제거장치는 부유미립자 등의 오염물질이 발생하지 않으며 제전시간이 신속하고, 넓은 제전범위 등 많은 장점이 있어 OLED 및 반도체 제조공정에 적합하지만 방사선 차폐에 대한 대책이 필요하다. 본 연구에서는 방사선조사방식 정전기 제거장치의 문제점인 방사선 누출에 대한 대책으로 방호장치를 설계하였다. 방사선이 발생하는 관로를 1차측, 방사선이 누출되지 않도록 꺾은 관로를 2차측으로 하였다. 이 방호장치를 MCNPX 코드로 시뮬레이션한 결과 1) 1차측 12㎜, 2차측 5.5㎜인 경우 방사선 누출량은 0.18μSv/h. 2) 1차측 12.5㎜, 2차측 13㎜인 경우에서 방사선 누출량은 0.15μSv/h. 3) 1차측 20㎜, 상부로 향한 2차측 7㎜인 경우 방사선 누출량은 0.11 μSv/h로 나타났다. 이 방호장치를 활용하여 방사선 노출이 없는 방사선조사방식 정전기제거장치를 제조하고자 한다.

목차

요약
Abstract
1. 서론
2. 이론적 배경
3. 시뮬레이션 장치 및 방호구조 설계
4. 시뮬레이션 결과 및 고찰
5. 결론
References

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