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본 논문에서는 인쇄회로기판의 감광층 보호필름을 532 nm 파장의 나노초 레이저의 단일펄스로 박리할 수 있음을 보여준다.
인쇄회로기판의 가장자리를 9 mm 크기의 레이저 빔으로 국부적으로 박리시킨 후 스카치테이프를 레이저 조사에 의해 초기 박리된 영역에 붙여 전체 보호필름을 떼어내었는데, 160 – 170 mJ의 펄스에너지 범위에서는 10회의 반복된 실험 모두에서 감광층손상 없는 박리에 성공하였다. 보호필름 초기 박리에 레이저를 사용하는 방식은 기계적 압착에 바탕을 둔 기존의 널링방식과는달리 감광층에 손상을 유발하지 않는 비접촉 방식으로써, 인쇄회로기판 제조공정에 보다 효율적으로 사용될 수 있을 것으로 판단된다.
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J. Lee / 2001 / Laser removal of copper particles from silicon wafers using UV, visible and IR radiation / Applied Physics A: Materials Science & Processing 73:219~224
M. Arronte / 2002 / Modeling of laser cleaning of metallic particulate contaminants from silicon surfaces / J. Appl. Phys 92:6973~6982
G. Vereecke / 1999 / Laser-assisted removal of particles on silicon wafers / J. Appl. Phys 85:3837~3843
D. Willis / 2005 / Microdroplet deposition by laserinduced forward transfer / Appl. Phys. Lett 86:244103-1~244103-3
H. Kim / 2007 / Optical patterning of silver nanoparticle Langmuir-Blodgett films / J. Appl. Phys 102:083505-1~083505-4
M. Arronte / 2002 / Modeling of laser cleaning of metallic particulate contaminants from silicon surfaces / J. Appl. Phys 92:6973~6982
G. Vereecke / 1999 / Laser-assisted removal of particles on silicon wafers / J. Appl. Phys 85:3837~3843
D. Willis / 2005 / Microdroplet deposition by laserinduced forward transfer / Appl. Phys. Lett 86:244103-1~244103-3
H. Kim / 2007 / Optical patterning of silver nanoparticle Langmuir-Blodgett films / J. Appl. Phys 102:083505-1~083505-4
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