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논문 기본 정보

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학술대회자료
저자정보
이원섭 (한국기계연구원) 조현민 (한국기계연구원) 장원석 (한국기계연구원)
저널정보
Korean Society for Precision Engineering 한국정밀공학회 학술발표대회 논문집 한국정밀공학회 2021년도 추계학술대회 논문집
발행연도
2021.11
수록면
407 - 407 (1page)

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유도 방출 억제(Stimulated Emission Depletion) 기술은 유도방출(Stimulated Emission) 현상을 이용해 광초점의 특정 영역에서 광화학적 현상을 억제시킴으로써 광학 해상도를 향상시키는 기술로, 광학시스템의 본질적인 회절 한계를 극복 가능하다는 장점으로 인해 고해상 형광 이미징, 리소그래피 공정 등에 적용되어 활발하게 연구되고 있다. 그러나 유도 방출 억제를 통해 해상도를 향상시키기 위해서는 도넛 형상의 억제 빔 초점을 형성해야 하기 때문에, 기존의 유도 방출 억제 시스템은 레이저 스캐닝 방식을 이용하여 이미징/패터닝을 수행하게 되며, 이에 따라 2 차원 면적을 한번에 처리할 수 있는 Wide-field 방식의 현미경 / 리소그래피 방식에 비해 공정 속도가 느려진다는 단점을 가진다. 이 연구에서는 S ... 전체 초록 보기
#Nanolithography #Nanostructure fabrication #Spatial light modulator #Superresolution

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