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학술대회자료
저자정보
이원섭 (한국기계연구원) 장원석 (한국기계연구원)
저널정보
Korean Society for Precision Engineering 한국정밀공학회 학술발표대회 논문집 한국정밀공학회 2021년도 춘계학술대회 논문집
발행연도
2021.5
수록면
472 - 472 (1page)

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이 논문의 연구 히스토리 (2)

2022

Analytical Description of Digital Mask Based STED Lithography
이원섭 ,  조현민 ,  장원석 Journal of the Korean Society for Precision Engineering 2022.11 학술저널

2021

Digital Mask 를 이용한 STED Lithography 기술의 분석적 검증
이원섭 ,  장원석 한국정밀공학회 학술발표대회 논문집 2021.05 학술대회자료

초록· 키워드

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유도 방출 억제(Stimulated Emission Depletion) 기술이 광학 회절한계의 제약을 극복한 이후로, 유도 방출 억제를 이용한 고해상 광학 이미징과 패터닝 기술들이 활발하게 연구되고 있다. 특히 패터닝 분야에서는 레이저 직접 묘화공정에 응용되어, 회절한계 이하의 고해상 3차원 복합 패턴을 제작하기 위한 많은 연구들이 진행되고 있다. 그러나 레이저 직접 묘화 공정은 집광된 초점광을 3차원 경로를 따라 제어하며 패턴을 제작하는 기술이므로 패턴 제조 속도가 느리며, 특히 고해상 패턴을 제조할 경우 패턴 제조 경로가 길어져 유도 방출 억제를 이용해 대면적/고해상 패턴을 제조하기 위해서는 공정 시간이 매우 길어진다는 단점이 있다. 이 연구에서는 Digital Micromirror Device를 디지털 마스크로 이용한 유도 방출 억제 패터닝 기술에 대해 제안하고, 이에 대한 해상도를 ... 전체 초록 보기
#Nanolithography #Nanostructure fabrication #Digital micromirror device #Superresolution

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유연소자 연속생산을 위한 디지털 노광헤드 개발
이원섭 ,  김기홍 ,  조현민 외 3명 한국정밀공학회 학술발표대회 논문집 2023 .05

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