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한영욱 (영광와이케이엠씨) 김훈식 (영광와이케이엠씨) 이준석 (영광와이케이엠씨) 장기범 (영광와이케이엠씨) 조성열 (영광와이케이엠씨)
저널정보
한국표면공학회 한국표면공학회 학술발표회 초록집 2021년도 한국표면공학회 추계학술대회
발행연도
2021.12
수록면
94 - 94 (1page)

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UHV(Ultra-high vacuum)이란 7.5x10<SUP>-10</SUP> torr 미만의 압력을 특징으로 하는 진공으로 UHV조건은 EUV, MBE(Molecular beam epitaxy), ALD, XPS, AES, SIMS 등 다양한 분야에 적용되며 순도에 대한 엄격한 요구사항이 있는 기술들에 UHV 조건이 사용된다. UHV 상태에서는 챔버 내부에서 가스 펌핑 시키기 때문에 충분한 배기 용량이 있다 하더라도 내부의 흡착된 분자가 많을 경우 해당 조건에 도 ... 전체 초록 보기

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