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자료유형
학술저널
저자정보
김진주 (한국원자력연구원) 최상무 (한국원자력연구원) 손광재 (한국원자력연구원) 홍진태 (한국원자력연구원)
저널정보
한국방사선산업학회 방사선산업학회지 방사선산업학회지 제11권 제3호
발행연도
2017.1
수록면
173 - 179 (7page)

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The small-scale electroplating device was designed and fabricated for Ni-63 sealed source (foil type) with a high specific activity needed for production of betavoltaic battery. The condition of Ni electroplating was optimized by using fabricated electroplating device to establish a Ni-63 electroplating condition on the Ni foil. The results showed that the optimum surface morphology and thickness of Ni deposit was obtained for 1,758 seconds at a current density of 15 mA·cm-2 with 0.5% tween 20. Radioisotope Ni-63 electroplating was implemented under established condition. The radioactivity of Ni-63 sealed source was calculated to 28.8 mCi·cm-2, and the thickness of Ni-63 deposit was about 2.4 μm.

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Di Bari GA / 1994 / Nickel Plating. ASM Handbook volume 5, Surface Engineering (ASM International) :201~212 google schola Guoping Z / 2013 / A simple theoretical model for 63Ni betavoltaic battery / Appl. Radiat. Isot 82:119~125 google schola Judy JW / 1995 / Magnetic microactuation of poly-silicon flexible structure / J. Microelectomech. Syst 4:162~169 google schola Kim JJ / 2015 / Study of the electroless deposition of Ni for betavoltaic battery using pn junction without seed layer / J. Nanomaterials 2015:1~5 google schola 박근용 / 2013 / 금속분말 Ni을 용해 한 Chloride Bath로 도금된 니켈후막의 입자크기에 대한 전류밀도 영향 / 한국자기학회지 23(1):12~17 dbpia

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