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저자정보
Mohiedin Bagheri Hariri (New Mexico State University) Farhad Batmanghelich (University of Toledo) Samin Sharifi-Asl (University of California at Berkeley) Yadollah Yaghoubinezhad (Sharif University of Technology) Golsa Mortazavi (Sharif University of Technology) Youngwoo Seo (University of Toledo)
저널정보
대한금속·재료학회 Metals and Materials International Metals and Materials International Vol.22 No.4
발행연도
2016.1
수록면
609 - 620 (12page)

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Corrosion and time–dependent oxide film growth on AA5052 Aluminum alloy in 0.25M Na2SO4 solution containing H2O2 was studied using electrochemical impedance spectroscopy, potentiodynamic polarization, chronoamperometric and open circuit potential monitoring. It was found that sequential addition of H2O2 provokes passivation of AA5052 which ultimately thickens the oxide film and brings slower corrosion rates for AA5052. H2O2 facilitates kinetics of oxide film growth on AA 5052 at 25° and 60 °C which is indicative of formation of a thick barrier film that leads to an increment in the charge transfer resistance. Pitting incubation time increases by introduction of H2O2 accompanied by lower pitting and smoother surface morphologies. At short exposure (up to 8 h) to H2O2–containing solution, the inductive response at low frequencies predominantly determined the corrosion mechanism of AA5052. On the other hand, at prolonged exposure times (more than 24 h) to 0.25M Na2SO4+1vol% H2O2 solution, thicker oxide layers resulted in the mixed inductive–Warburg elements in the spectra.

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H. Ezuber / 2008 / Mater. Design 29:801 google schola M. F. Naeini / 2011 / J. Alloy. Compd 509:4696 google schola B. H. Lee / 2016 / Mater. Sci. Eng. A 657:115 google schola M. Liu / 2016 / Mater. Sci. Eng. A 658:238 google schola C. Vargel / 2004 / Corrosion of Aluminium / Elsevier :77 google schola

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