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Hyeon Jin Seo (Sungkyunkwan University) Yeong Eun Gil (Sungkyunkwan University) Ki‑Hwan Hwang (Sungkyunkwan University) Antony Ananth (Sungkyunkwan University) Jin‑Hyo Boo (Sungkyunkwan University)
저널정보
대한금속·재료학회 Electronic Materials Letters Electronic Materials Letters Vol.15 No.4
발행연도
2019.1
수록면
396 - 401 (6page)

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In this study, a gate dielectric suitable for application in field effect transistors (FETs) was synthesized. Gate dielectrics weredeposited using cyclohexane via plasma-enhanced chemical vapor deposition. These films were synthesized on silicon waferssubstrates with plasma powers adjusted from 10 to 60 W. Graphene was synthesized on a nickel substrate by a thermal chemicalvapor deposition process and coupled to the plasma-polymer via water transfer. Alpha step, Fourier-transform infraredspectroscopy, Raman spectroscopy, and atomic force microscopy findings in addition to water contact angle measurementswere analyzed to characterize the physical and chemical properties of the plasma-polymer thin film. Furthermore, a probestation was used to characterize the FET devices fabricated using such films.

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