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저자정보
Jeong‑Han Lee (Korea Institute of Industrial Technology (KITECH)) Hyun‑Kuk Park (Korea Institute of Industrial Technology (KITECH)) 장준호 (광주과학기술원 히거신소재연구센터) Ik‑Hyun Oh (Korea Institute of Industrial Technology (KITECH))
저널정보
대한금속·재료학회 Metals and Materials International Metals and Materials International Vol.25 No.1
발행연도
2019.1
수록면
268 - 276 (9page)

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This study formed a hard TiAlSiWN coating layer using Ti, Al, Si and W raw powders that were mechanically alloyed andrefined. The TiAlSi and TiAlSiW coating targets were fabricated using a pulse current activated sintering process in a shorttime with the optimal sintering conditions. The optimized sintering condition was obtained by controlling process parameterssuch as temperature, pressure, heating rate and pulse ratio (on/off). The coating targets were successfully deposited onthe WC substrate to form the TiAlSiN and TiAlSiWN nitride nano-composite structures by an arc ion plating process andalso, their coating layers were compared according to the addition of W element. The microstructures of the nitride nanocompositecoating layer were analyzed, focusing on the distribution of the crystalline phases, amorphous phases (Si3N4),and growth orientation of the columnar crystal depending on the addition of W element. The mechanical properties of thecoating layers were exhibited a hardness of approximately 3000 kg/mm2 and adhesion of about 117.77 N in the TiAlSiN. Inparticular, the TiAlSiWN showed excellent properties with a hardness of more than 4300 kg/mm2 and an adhesion of about181.47 N, respectively.
#TiAlSiW · Mechanical alloying · Pulsed current activated sintering process · Arc ion plated thin film · Nitride nano-composites · Hard coating

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