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논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술대회자료
- 저자정보
- 발행연도
- 2021.6
- 수록면
- 40 - 40 (1page)
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본 연구에서는 초기 섬상 형태의 Al층을 증착 후 산소 플라즈마 처리를 반복하는 다중 플라즈마 증착-산화법으로 제작한 조밀한 Al<sub>2</sub>O<sub>3</sub>층을 통해 기존의 ZnO/Cu/ZnO구조 투명히터의 내식성과 투과도를 동시에 향상시킨 결과를 보고한다. 1 nm 와 2 nm의 Al층 증착 후 30 W전력과 60 s의 플라즈마 산화처리를 통해 Al<sub>2</sub>O<sub>3</sub>층을 제작 후 투과도 감소정도를 측정하였으며 Al 1nm를 통해 형성한 Al<sub>2</sub>O<sub>3</sub>층의 경우 0.49%, Al 2 nm를 통해 형성한 Al<sub>2</sub>O<sub>3</sub>층의 경우 1.20%의 감소를 보여 투과도 저하가 적은 Al 1 nm층을 증착 후 Al<sub>2</sub>O<sub>3</sub> 층을 제작하였다. 본 증착법을 이용한 Al<sub>2</sub>O<sub>3</sub>층의 증착률은 기존 반응성 스퍼터링에 비해 30.4배, Al<sub>2</sub>O<sub>3</sub> 타겟 스퍼터링법에 비해 289.4배 빠른 것으로 확인되었으며 굴절률은 보고된 Al<sub>2</sub>O<sub>3</sub> 박막의 굴절률 값과 동일한 것으로 확인되었다. 내식성 평가를 위해 Cu 20 nm 상부에 ZnO 와 Al<sub>2</sub>O<sub>3</sub>층을 각각 0-20 nm 증착 후 85 °C/85% 습도에서 시간에 따른 부식 정도를 측정하기 위해 면저항을 측정하였다. 10,000 분이 경과함 ... 전체 초록 보기
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