메뉴 건너뛰기
.. 내서재 .. 알림
소속 기관/학교 인증
인증하면 논문, 학술자료 등을  무료로 열람할 수 있어요.
한국대학교, 누리자동차, 시립도서관 등 나의 기관을 확인해보세요
(국내 대학 90% 이상 구독 중)
로그인 회원가입 고객센터 ENG
주제분류

추천
검색
질문

논문 기본 정보

자료유형
학술저널
저자정보
장원호 (홍익대학교) 김태현 (홍익대학교) 임준혁 (홍익대학교) 차호영 (홍익대학교)
저널정보
대한전자공학회 전자공학회논문지 전자공학회논문지 제58권 제5호(통권 제522호)
발행연도
2021.5
수록면
14 - 19 (6page)
DOI
10.5573/ieie.2021.58.5.14

이용수

표지
📌
연구주제
📖
연구배경
🔬
연구방법
🏆
연구결과
AI에게 요청하기
추천
검색
질문

이 논문의 연구 히스토리 (3)

초록· 키워드

오류제보하기
본 연구에서는 얇은 AlGaN 장벽층을 갖는 AlGaN/GaN 이종접합 소자의 특성 향상을 위하여 원자층 증착법 방식을 이용한 AlN 박막을 적용한 결과에 관하여 연구하였다. 얇은 AlGaN/GaN 층 위의 AlN 박막 증착은 분극 효과를 향상시키며 이를 통해 계면의 이차원 전자가스 (2-dimensional electron gas, 2DEG) 농도가 증가하며 전류 특성 향상이 가능하다. 본 실험에서는 4 ㎚의 얇은 AlGaN 장벽층을 갖는 AlGaN/GaN 이종접합 구조에 10 ㎚ 두께의 AlN 박막을 적용하였으며 이때 2DEG의 전자 농도가 급격하게 증가하는 것을 확인하였고 증가된 전자 농도는 통상적으로 사용되는 20 ㎚ 정도의 두꺼운 AlGaN 장벽층을 갖는 구조의 특성과 유사함을 확인하였다. 또한, AlN 박막과 함께 추가적인 SiN<SUB>x</SUB> 박막 패시베이션을 증착하였을 때 더욱 큰 2DEG의 전자 농도 및 전류량 증가를 확인하였다. 해당 연구 결과를 통해 AlGaN/GaN 이종접합 구조의 2DEG 특성을 원자층 증착법 방식을 이용한 박막 공정으로 획기적으로 향상 시킬 수 있음을 확인하였다.

목차

요약
Abstract
Ⅰ. 서론
Ⅱ. 본문
Ⅲ. 결론
REFERENCES

참고문헌 (14)

참고문헌 신청

함께 읽어보면 좋을 논문

논문 유사도에 따라 DBpia 가 추천하는 논문입니다. 함께 보면 좋을 연관 논문을 확인해보세요!

이 논문의 저자 정보

이 논문과 함께 이용한 논문

최근 본 자료

전체보기

댓글(0)

0

UCI(KEPA) : I410-ECN-0101-2021-569-001765691