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- 학술대회자료
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- 2021.2
- 수록면
- 141 - 141 (1page)
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To solve various device problems, it has been replaced by lower resistance Cu instead of the conventional wiring material Al, and SiO<sub>2</sub> is being replaced by low-k thin films with lower dielectric constant Ions, radicals, and photons generated duri ... 전체 초록 보기
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