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논문 기본 정보

자료유형
학술저널
저자정보
윤창석 (고려대학교 세종캠퍼스)
저널정보
한국표면공학회 한국표면공학회지 한국표면공학회지 제53권 제5호
발행연도
2020.10
수록면
265 - 270 (6page)

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We investigated mechanochemical radical, which is concomitant with chemical lift-off lithography(CLL), on the self-assembled monolayer(SAM)/electrodes and a polydimethylsiloxane(PDMS) using a colorimetric and a spectroscopic method. The 11-mercaptoundecanol(MUO)/Au or the 11-hydroxyundecylphosphonic acid (HUPA)/ITO were contacted with bare or activated PDMS. After contact, the each of SAM/substrates and the PDMS were immersed in a 2,2 Diphenyl-1-picrylhydrazyl(DPPH) radical scavenger. The color of the DPPH exposed to the PDMS was changed from purple to yellow and the absorbance decreased definitely at 515 nm wavelength. The SAM/substrates, however, have caused small changes in spectroscopic property, indicating no existence of radical species. We concluded that mechanochemical radicals were formed by homolytic cleavage of PDMS molecules upon external force and hardly transferred on the SAM/substrates.
#Chemical Lift-Off lithography(CLL) #Mechanochemistry #Self-Assembled Monolayer(SAM) #Radical #Bond Breaking

목차

Abstract
1. 서론
2. 연구방법
3. 본론
4. 결론
References

참고문헌 (15)

참고문헌 신청
B.D. Gates, Q. Xu, M. Stewart, D. Ryan, C.G. Willson, G.M. Whitesides, New Approaches to Nanofabrication: Molding, Printing, and Other Techniques, Chem. Rev. 105 (2005) 1171-1196. google schola Y. Xia, G.M. Whitesides, Soft Lithography, Angew. Chem. Int. Ed. 37 (1998) 550-575. google schola W. Shim, A.B. Braunschweig, X. Liao, J. Chai, J.K. Lim, G. Zheng, C.A. Mirkin, Hard-tip, softspring lithography, Nature 469 (2011) 516-520. google schola W.-S. Liao, S. Cheunkar, H.H. Cao, H.R. Bednar, P.S. Weiss, A.M. Andrews, Subtractive Patterning via Chemical Lift-Off Lithography, Science 337 (2012) 1517-1521. google schola K.M. Cheung, D.M. Stemer, C. Zhao, T.D. Young, J.N. Belling, A.M. Andrews, P.S. Weiss, Chemical Lift-Off Lithography of Metal and Semiconductor Surfaces, ACS Materials Lett. 2 (2020) 76-83. google schola

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