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논문 기본 정보

자료유형
학술저널
저자정보
박성국 (포항산업과학연구원) 노유미 (포항산업과학연구원) 이상길 (포항산업과학연구원) 김주엽 (대일개발[주]) 신창훈 (대일개발[주]) 김준영 (대일개발[주]) 안재우 (대진대학교)
저널정보
한국자원리싸이클링학회 자원리싸이클링 자원리싸이클링 제15권 제5호
발행연도
2006.1
수록면
26 - 32 (7page)

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이 논문의 연구 히스토리 (2)

2006

반도체(半導體) 제조공정(製造工程)에서 발생하는 혼산폐액(混酸廢液)으로부터 고순도(高純度) 인산회수(燐酸回收)
박성국 ,  노유미 ,  이상길 외 4명 자원리싸이클링 2006.01 학술저널
반도체 제조공정에서 발생하는 혼산폐액으로부터 고순도 인산 회수
박성국 ,  노유미 ,  이상길 외 3명 한국자원리싸이클링학회 학술발표대회 2006.01 학술대회자료

초록· 키워드

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LCD와 반도체 제조공정에서 발생하는 인산, 질산, 초산, Al, Mo 등이 혼재하고 있는 인산계 혼산폐액을 액정제조공정에서 사용할 수 있는 고순도 에칭액으로 재활용하기 위해서 용매추출법, 진공증발법, 확산투석법 및 이온교환법의 각각의 기술적 특성을 살린 혼합 처리공정을 이용하여 고순도 인산회수 기술을 확립하고 상용화 시스템을 개발하고자 하였다. 시험 결과 진공증발에 의해 질산과 초산을 100% 제거할 수 있었고, TOP를 이용한 용매추출에서도 추출 4단, 탈거 6단으로 완벽하게 제거할 수 있었다. 이온교환의 전단계로 적용한 확산투석에서 Al 97.5%, Mo 36.7% 제거할 수 있었고 이온교환공정에서 Al 및 Mo를 각각 1ppm이하로 정제할 수 있었다.
#고순도 인산 #진공증발 #용매추출 #확산투석 #이온교환

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