Tethered DNA shear dynamics in the flow gradient plane: application to double tethering

Lueth, Christopher A.; Shaqfeh, Eric S.G.

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자료유형: 학술저널

저자정보: Lueth, Christopher A. (Department of Chemical Engineering, Stanford University) Shaqfeh, Eric S.G. (Departments of Chemical Engineering and Mechanical Engineering, Stanford University)

저널정보: 한국유변학회 Korea-Australia rheology journal Korea-Australia rheology journal 제19권 제3호

발행연도: 2007.1

수록면: 141 - 146 (6page)

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We examine the wall contact of a $3\;{\mu}m$ tethered DNA chain's free end under shear with a focus on developing schemes for double-tethering in the application of making scaffolds for molecular wires. At this scale our results are found to be highly dependent on small length scale rigidity. Chain-end-wall contact frequency, mean fractional extension deficit upon contact, and standard deviation in extension upon contact are examined for scaling with dimensionless flow strength, Wi. Predictions made using a one dimensional approximation to the Smoluchowski equation for a dumbbell and three dimensional dumbbell simulations produce extension deficit, standard deviation, and frequency scaling exponents of -1/3, -1/3, and 2/3, respectively whereas more fine-grained Kratky-Porod (KP) simulations produce scaling exponents of -0.48, -0.42, and 0.76. The contact frequency scaling of 2/3 is derived from the known results regarding cyclic dynamics Analytical scaling predictions are in agreement with those previously proposed for ${\lambda}-DNA$. [Ladoux and Doyle, 2000, Doyle et al., 2000]. Our results suggest that the differences between the dumbbell and the KP model are associated with the addition of chain discretization and the correct bending potential in the latter. These scaling results will aide future exploration in double tethering of DNA to a surface.

#tethered DNA #flow gradient plane #Weissenberg number scaling #Kratky-Porod

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Lueth, Christopher A.

소속기관 Department of Chemical Engineering, Stanford University

주요연구분야 공학 > 공학 일반

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Shaqfeh, Eric S.G.

소속기관 Departments of Chemical Engineering and Mechanical Engineering, Stanford University

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