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자료유형
학술저널
저자정보
김장우 (호서대학교 환경안전공학부) 정진도 (호서대학교 환경안전공학부) 김성근 (호서대학교 환경공학과 대학원)
저널정보
한국반도체디스플레이기술학회 반도체및디스플레이장비학회지 반도체및디스플레이장비학회지 제3권 제3호
발행연도
2004.1
수록면
41 - 44 (4page)

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The aim of this study is the confirmation of the coating uniformity affected by the surface tension and wall attachment angle in a slit-coater model. In this work, we use the commercial code (Fluent) to solve the two-phase flow formed with air and photo resist numerically. The results show that the surface tension is the most important factor to determine the coating efficiency in the view of coating uniformity, and the coating uniformity is 2% for our slit-coater model and conditions. To improve the coating uniformity, it is in need of minimization of the sidewall effect of slit-coater.
#Slit-Coater #Photo Resist #Computational Fluid Dynamics #Surface Tension #Attachment Angle #Coating Uniformity

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