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논문 기본 정보

자료유형
학술저널
저자정보
김장우 (호서대학교 환경안전공학부)
저널정보
한국반도체디스플레이기술학회 반도체및디스플레이장비학회지 반도체및디스플레이장비학회지 제3권 제3호
발행연도
2004.1
수록면
37 - 40 (4page)

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This study presents numerical solutions of three-dimensional laminar flow-field formed by photo resist flow in a slit-coater model. We discuss on the governing equations, laminar viscosities and the computational model applied in our numerical calculation and some results. We prove that the structure of tapered-cavity aid to make uniform pressure-field and boundary effect is an important problem to improve coating uniformity. In view of uniformity improvement, it is necessary to study for the structure of cavity and flow path.
#Slit-Coater #Photo Resist #Computational Fluid Dynamics #Boundary Layer Effect #Velocity Distribution

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