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논문 기본 정보

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학술저널
저자정보
이준하 (상명대학교 컴퓨터시스템공학 정보디스플레이연구소) 이흥주 (상명대학교 컴퓨터시스템공학 정보디스플레이연구소)
저널정보
한국반도체디스플레이기술학회 반도체및디스플레이장비학회지 반도체및디스플레이장비학회지 제3권 제3호
발행연도
2004.1
수록면
19 - 21 (3page)

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2004

적응성 유한체적법을 적용한 다차원 확산공정 모델링
이준하 ,  이흥주 반도체및디스플레이장비학회지 2004.01 학술저널
적응성 유한체적법을 적용한 다차원 확산공정 모델링
이준하 ,  이흥주 ,  변기량 한국반도체및디스플레이장비학회 학술대회 2004.01 학술대회자료

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This paper presents a 3-dimensional diffusion simulation with adaptive solution strategy. The developed diffusion simulator VLSIDIF-3 was designed to re-refine areas. Refine scheme was calculated by the difference of doping concentration between any of two nodes. Each element is greater than tolerance and redo diffusion process until error is tolerable. Numerical experiment in low doping diffusion problem showed that this adaptive solution strategy is very efficient in both memory and time, and expected this scheme would be more powerful in complex diffusion model.
#Boron Nitride #Defect #Simulation #Dynamics

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