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논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술저널
- 저자정보
- 발행연도
- 2019.1
- 수록면
- 44 - 47 (4page)
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Amorphous carbon layer (ACL) is actively used as an etch mask. Recent advances in patterning ACL requires the next level of durability of hard mask in high aspect ratio etch in near future semiconductor manufacturing, and it is worthwhile to know the surface property of ACL thin film to enhance the property of etch hard mask. In this research, ACL are deposited by 6 inch plasma enhanced chemical vapor deposition system with $C_3H_6$ and $N_2$ gas mixture. Surface properties of deposited ACL are investigated depending on gas flow, pressure, RF power. Fourier transform infrared is used for the analysis of surface chemistry, and X-ray photoemission spectra is used for the structural analysis with the consideration of the contents of $sp^2$ and $sp^3$ through fitting of C1s. Also mechanical properties of deposited ACL are measured in order to evaluate hardness.
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Abe, H. / 2008 / Developments of Plasma Etching Technology for Fabricating Semiconductor Devices / Japanese Journal of Applied Physics 47(3):1435~1455
Lee, S. / 2011 / Comparative Study on the Properties of Amorphous Carbon Layers Deposited from 1-Hexene and Propylene for Dry Etch Hard Mask Application in Semiconductor Device Manufacturing / Thin Solid Films 519(20):6683~6687
Chun, H. / 2003 / Hydrocarbon Plasma of a Low-Pressure Arc Discharge for Deposition of Highly-Adhesive Hydrogenated DLC films / Journal of the Korea Society of Semiconductor Equipment Technology 2(1):1~5
Robertson, J. / 2002 / Diamond-like Amorphous Carbon / Materials Science and Engineering: R: Reports 37(4?6):129~281
Horn, T. D. / 2015 / Amorphous Carbon Hard Mask for Multiple Patterning Lithography / Journal of the Microelectronic Engineering Conference 21(1)
Lee, S. / 2011 / Comparative Study on the Properties of Amorphous Carbon Layers Deposited from 1-Hexene and Propylene for Dry Etch Hard Mask Application in Semiconductor Device Manufacturing / Thin Solid Films 519(20):6683~6687
Chun, H. / 2003 / Hydrocarbon Plasma of a Low-Pressure Arc Discharge for Deposition of Highly-Adhesive Hydrogenated DLC films / Journal of the Korea Society of Semiconductor Equipment Technology 2(1):1~5
Robertson, J. / 2002 / Diamond-like Amorphous Carbon / Materials Science and Engineering: R: Reports 37(4?6):129~281
Horn, T. D. / 2015 / Amorphous Carbon Hard Mask for Multiple Patterning Lithography / Journal of the Microelectronic Engineering Conference 21(1)
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