플라즈몬 효과에 의한 실리콘 기판위에 증착된 반도체 박막의 자기저항특성

오데레사

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자료유형: 학술저널

저자정보: 오데레사 (청주대학교 반도체공학과)

저널정보: 한국반도체디스플레이기술학회 반도체디스플레이기술학회지 반도체디스플레이기술학회지 제18권 제3호

발행연도: 2019.1

수록면: 105 - 109 (5page)

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Plasmons have conductive properties using the effect of amplifying magnetic and electric fields around metal particles. The collective movement of free electrons in metal particles induces and produces the generation of plasmon. Because the plasmon is concentrated on the surface of the nanoparticles, it is also called the surface plasmon. The polarizing effect of plasma on the surface is similar to the principle of surface currents occurring in insulators. In this study, it was found the conditions under which plasma is produced in SiOC insulators and studied the electrical properties of SiOC insulators that are improved in conductivity by plasmons. Due to the heat treatment temperature of thin film, plasma formation was shown differently, metal particles were used with normal aluminium, SiOC thin films were treated with heat at 60 degrees, conductivity was improved dramatically, and heat treatment at higher temperatures was found to be less conductivity.

#Sputtering #Plasmon #Surface Current #Polarization #Insulator #EM Field

참고문헌 (9)

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D. C. Paine / 2008 / Amorphous IZO-based transparent thin film transistors / Thin Solid Films 516:5894~5898

T. Oh / 2015 / Tunneling Phenomenon of amorphous Indium-Gallium-Zinc-Oxide Thin Film Transistors for Flexible Display / EML 11:853~861

N. Ito / 2006 / Electrical and optical properties of amorphous indium zinc oxide films / Thin Solid Films 496(1):99~103

K. K. Banger / 2011 / Low-temperature, high-performance solution-processed metal oxide thin-film transistors formed by a ‘sol–gel on chip’ process / Nature Materials 10:45~50

Y. S. Jung / 2003 / Influence of DC magnetron sputtering parameters on the properties of amorphous indium zinc oxide thin film / Thin Solid Films 445:63~71

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