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자료유형
학술저널
저자정보
이미영 (부경대학교 공과대학 화상정보공학부) 박경진 (부경대학교 공과대학 화상정보공학부) 남수용 (부경대학교 공과대학 화상정보공학부)
저널정보
한국인쇄학회 한국인쇄학회지 한국인쇄학회지 제26권 제1호
발행연도
2008.1
수록면
73 - 85 (13page)

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We have manufactured a photoresist which has excellent dispersity and good applying property due to 330cps of viscosity for environment-friendly and economical maskless screen plate making. And the photoresist applied on the screen stretched was exposed without mask by beam projector with CRT light source. Then it was developed by air spray with $1.7kgf/cm^2$ of injection pressure. The pencil hardness and solvent resistance of curing photoresist film were worse than those of conventional photoresist film and the maximum resolution of line image formed by maskless screen plate making was 0.5 mm since the exposure system for maskless plate making has weak light intensity and the diffusion of light. But we could obtain maskless screen plate which has sharp edges of line image and confirm a possibility of dry development process by air spray method.

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