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저자정보
Cho, Chul-Lae (Dept. of Electronics Engineering, Sejong University) Lee, Sung-Hyun (Dept. of Electronics Engineering, Sejong University) Lee, Chang-Hoon (Dept. of Electronics Engineering, Sejong University) Lee, Dea-Hyun (Dept. of Electronics Engineering, Sejong University) Lee, Sang-Yoon (Samsung Advanced Institute of Technology [SAIT]) Kwon, Jang-Yeon (Samsung Advanced Institute of Technology [SAIT]) Park, Kyung-Bae (Samsung Advanced Institute of Technology [SAIT]) Kim, Jong-Man (Samsung Advanced Institute of Technology [SAIT]) Jung, Ji-Sim (Samsung Advanced Institute of Technology [SAIT]) Hong, Wan-Shick (Dept. of Nano Science and Technology, University of Seoul)
저널정보
한국정보디스플레이학회 한국정보디스플레이학회 International Meeting 한국정보디스플레이학회 2006년도 6th International Meeting on Information Display
발행연도
2006.1
수록면
495 - 498 (4page)

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The influence of various process parameters for the as-deposited poly silicon was investigated. The polycrystalline silicon films were successfully deposited on glass substrates at a low-temperature $(<200^{\circ}C)$ using the catalytic chemical vapor deposition (Cat-CVD). We achieved a low hydrogen content $({\sim}0.9%)$ and a high deposition rate $({\sim}35{\AA}/sec)$. The film is applicable to thin film transistors on plastic substrates.

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